Dopage dans les réacteurs à pulsation
Chez IBU-tec, les traitements de dopage sont effectués dans nos réacteurs à pulsation. Pour cela, nous avons développé un nouveau procédé, une calcination par choc thermique suivie d’une étape de refroidissement ciblée. Nous préparons le matériau de base et la substance à incorporer sous la forme d’une solution, d’une suspension ou d’une poudre humide. Pour obtenir un produit fini aux propriétés optimales, le rapport de mélange doit être ajusté avec précision.
Après injection du mélange dans le réacteur à pulsation, le séchage et la calcination ont lieu presque simultanément dans la chambre de réaction, de sorte que les atomes étrangers sont fixés dans le matériau de base. Afin d’obtenir les meilleures propriétés finales possible, une bonne coordination des paramètres de réaction, tels que la température des particules ou le temps de séjour, est essentielle.
L’avantage d’utiliser un réacteur à pulsation pour le dopage est que les dopants peuvent être distribués très finement et de manière homogène sur le matériau de base, ce qui est particulièrement important pour les matériaux électroniques. De plus, le procédé est beaucoup plus efficace que les méthodes conventionnelles et les substances à incorporer peuvent ainsi être utilisées avec beaucoup plus de parcimonie. Lorsque les matériaux sont coûteux, par exemple des métaux précieux, cela engendre des économies de coûts très importantes.
Le réacteur à pulsation nous a permis d’acquérir une expérience considérable avec le dopage de divers matériaux céramiques, par exemple l’oxyde d’aluminium et l’oxyde de zirconium, comme matériau de base ou comme substance à introduire. Grâce à notre procédé, nous avons également pu tester le dopage de matériaux céramiques avec de l’oxyde d’yttrium et de l’oxyde de magnésium.
Si vous avez besoin d’aide pour des projets nécessitant un procédé de dopage, contactez-nous, nous serons heureux de vous conseiller.